Sigpro - DESARROLLO DE PATRONES NACIONALES DE NIVEL PRIMARIO Y SECUNDARIO DE METRO- LOGIA OPTICA PARA EL LABORATORIO DE FOTONICA Y TECNOLOGIA LASER (LAFLA).

Proyecto

A1102 Terminado

DESARROLLO DE PATRONES NACIONALES DE NIVEL PRIMARIO Y SECUNDARIO DE METRO- LOGIA OPTICA PARA EL LABORATORIO DE FOTONICA Y TECNOLOGIA LASER (LAFLA).

Unidad responsable: INSTITUTO DE INVESTIGACIONES EN INGENIERIA
Tipo de investigación: APLICADA
Estado del proyecto: TERMINADO

Tipo de financiamiento: POR LA U.C.R.
Ubicación del proyecto: SAN JOSE, MONTES DE OCA
Tipo de Proyecto: PROYECTO
Periodo de vigencia: 2001 - 2001

Objetivos

OBJETIVO GENERAL: FORTALECER LA INVESTIGACION INTERDISCIPLINARIA DE LA INGENIERIA Y DE LA METROLOGIA ENTRE ENTES ESPECIALIZADOS PARA CREAR UN LABORATORIO NACIONAL DE METROLOGIA OPTICA.

Descriptores

4265 - METROLOGIA
4877 - OPTICA

Disciplinas

METROLOGIA, NORMA. CON.CALIDAD

Investigadores

Mostrando 2 investigadores

NOMBRE	PARTICIPACIÓN	FECHA DE INICIO	FECHA DE TÉRMINO
Marin Naranjo, Luis Diego	PRINCIPAL	03/01/2001	31/12/2001
Padilla Viquez, Gerardo	ASOCIADO	03/01/2001	31/12/2001

Vigencias

VIGENCIA	FECHA DE INICIO	FECHA DE TÉRMINO
ORIGINAL	03/01/2001	31/12/2001

Publicaciones Kerwá

TÍTULO	TIPO	AUTOR	FECHA
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